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半导体制造和相邻应用的光学和 EUV 光刻、图案化技术、计量和工艺集成方面
光学和 EUV 纳米光刻
DTCO 和计算模式
计量、检验和过程控制
新颖的图案化技术
图案化材料和工艺的进步
用于纳米图案化的先进蚀刻技术和工艺集成
美国圣何塞国际光刻技术展览会
展会时间:
2026年2月22日-26日
已开展
展览行业:
科学
展会地点:
北美洲 · 美国 · 圣何塞
历史阅读量
51109
3
展会介绍
英文名称：ADVANCED LITHOGRAPHY CONFERENCE AND EXPO
英文简称：ADVANCED LITHOGRAPHY
展览行业：科学
举办周期：一年一届
展会规模：10000-20000
展品范围
光刻设备、纳米技术产品、材料、磨料、化学品、软件、光学元件、微技术、相机和成像系统
测试测量设备、显微镜、数据计算软件、加工硬件、光学涂层和薄膜
探测器和传感器、激光器和激光系统
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